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真空镀知识解析

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标签: 真空

真空

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汽车电子

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                        真空镀知识解析真空镀膜技术及设备两百年发展历史    随着人们生活水平的不断提高,对各种工艺品、建材、家具、电子产品、汽车、玩具、灯具等的表面装饰提出了越来越高的要求。对非金属物件表面金属化或金属物件表面美观化,传统上通常采用电镀的方法。但由于传统电镀毒性大,三废污染特别严重,在人们环保意识逐步加强的今天,它的发展,已受到了各方各面的制约。    化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后,1817年,Fraunhofe在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃,偶然第一次获得减反射膜,1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来,人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50年代,除大快窗玻璃增透膜的一些应用外,化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。    真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺,是迄今在工业领域能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规模地应用,实际上是在1930年出现了油扩散泵---机械泵抽气系统之后。    1935年,有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。    1938年,美国和欧洲研制出双层减反射膜,但到1949年才制造出优质的产品。    1965年,研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面,美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面,德国1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。    在溅射镀膜领域,大约于1858年,英国和德国的研究者先后于实验室中发现了溅射现象。该技术经历了缓慢的发展过程。    1955年,Wehner提出高频溅射技术后,溅射镀膜发展迅速,成为了一种重要的光学薄膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。    自50年……                       

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