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电磁线圈绝缘氧化铝膜的研究

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标签: 电磁线圈绝缘氧化铝膜的研究

电磁线圈绝缘氧化铝膜的研究

在硫酸舟盾中,对铝箔表面进行氧化,最佳条件为:H:SO.(15  )、H:C20(15  g/L)、NISO.(88\",L)、NP-10(0.1g/L)、电流密度(2A/dm。)、氧化时间(10rain)、温度25士l℃、羲得了耐蚀、耐击穿电压高和韧性好的绝缘卓.化铝箔,可用于电磁践田的埋.I、得到了满意的鳍果。  r美键调:  氧化铝胜篼掉铝搐  电磁斑圈

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