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直径12英寸硅单晶抛光片

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标签: 单晶硅

单晶硅

直径12英寸硅单晶抛光片

创新专栏
中½集成电路
C½½½½ ½½½½ ½½½ ½½ ½ C½½½½½½
CIC
直径
1 2
英寸硅单晶抛光片
有研半导½材料股½有限公司
产品及其简介
公司立足自主创新
攻克了
12
英寸硅单晶生长的热场设计和安全 、
杂质和缺陷的控制 、
硅片几½参数
的精密控制 、
表面金属和颗粒的去除等关键技术难题
½成了从单晶生长到晶片加工 、
处理和检测的自有成
套技术
并利用该套技术开发成功直径
12
英寸硅单晶抛光片新产品
填补了½内空½ 。 产品关键参数达到
了½际先进水平
可满足
0.13- 0.10
微米线½的先进集成电路制造技术要求
并建成了我½第一条月产
万片直径
12
英寸硅单晶抛光片中试生产线 。
创新性和先进性
该技术开发集原始创新 、
集成创新和消化吸收再创新为一½ 。在产品的研发过程中
解决了硅单晶生长
装备改造 、
熔½对流 、
氧及相关缺陷控制 、
细线径切片 、
24- 28
英寸热场设计与制造
专用½晶及夹持技术 、
砂浆½产化与回收 、
双面磨削 、
双面抛光 、
硅片热处理以及
10
级净化厂房自主设计与安装等一系列关键技
在大尺寸热场设计 、
杂质 、
表面纳米½貌与局部平整度的控制和检测等方面具有创新性
申请
COP
缺陷 、
专利
25
项 。
英寸硅单晶生长设备升级改造
½成适用于
12
英寸硅单晶批量生产的设备
½现了在引进 、
化、
吸收和再创新方面的½力 。
设计制½了适用于
12
英寸单晶生长的具有自主知识产权的
24- 28
英寸热场
填补了½内热场设计
的空½ 。
氧 掺杂剂和
COP
缺陷的控制 。
实现了对熔½对流 、 、
½晶夹持装½ 、
单晶棒传递装½等
解决了单晶生长
开发了具有自主知识产权的挥发物预氧化装½ 、
和传递的安全问题 。
开发了砂浆回收工艺和细线径线切割工艺
实现了切削液和砂浆的½产化
成功解决了大直径硅片
翘曲问题
为½内半导½级硅片和太阳½级硅片厂商提高产品回收率和降½成本起到了很½的示范½用 。
增加超声波的单片清洗工艺
有效去除了纳米级细小颗粒
防止了交叉污染
改善了硅片表面的洁净
度。
54
总第
98
2007
・ ・
½½½½
//½½½.½½½½½ ½.½½½
CIC
中½集成电路
C½½½½ ½½½½ ½½½ ½½ ½ C½½½½½½
创新专栏
硅片的快速热处理技术
实现了硅片表面洁净区厚度在
10- 170μ½
间可控 。
依靠自主技术
并联合½内相关单½
组织完成了适用于半导½生产的高等级
十级以下
超净厂房
的设计 、
配套 、
安装和调试
并一次性测试验收合格
填补了½内高等级
十级以下
超净厂房的设计和安装
的空½ 。
12
英寸硅单晶抛光片的制备技术主要由信越 、
SUMCO
W½½½½½
MEMC
等几家大公司所掌控 。有研半导
½材料股½有限公司开发出成套的
12
英寸硅单晶抛光片工程化技术
½我½拥有了
0.13- 0.10
微米线½的
集成电路用
12
英寸硅片制½的核心技术
½够满足
12
英寸硅单晶生长和硅片加工的需求 。 产品填补了½
内的空½
处于行业领先地½
并与½外知名厂商的同类产品相½
½我½集成电路关键配套材料的水平上
了一个新的台阶
实现了跨越式发展 。
产业化和市场前景
直径
12
英寸硅单晶抛光片主要用于制½
0.13
微米线½以下的先进集成电路的衬底 。 目前
全球有
20
多家先进的集成电路制造商拥有多达
50
条的
12
英寸生产线
I½½½½
I½½½½½½½
TSMC
UMC
S½½½½½½
需求
12
英寸硅片
1500
万片左右
并以两½数速度增长
预计
2007
年将达到
2000
万片 。
½内中芯½际
12
英寸集成电路生产线对
12
英寸硅单晶抛光片的年需求量为
12- 18
万片 。 未来
½内
12
英寸硅材料市场将不断扩大
12
英寸集成电路芯片厂有望增加到
7- 8
12
英寸硅抛光片的年需求
量将达到
180- 240
万片
市场前景广阔 。
有研半导½材料股½有限公司
简称有研硅股
是由北京有色金属研究总院
有研总院
独家发起于
开发 、
生产基地
是½内生产半
1999
月上市的股½公司
是我½具有½际先进水平的半导½材料研究 、
导½材料的骨干企业 。主要从事硅及相关半导½材料的研究 、
开发 、
生产与经营 。公司目前拥有一条
英寸
- 5
英寸晶片加工生产线
一条
英寸
- 8
英寸晶片加工生产线及一条
12
英寸晶片加工中试线 。 与½内同行
相比
公司产品的½内市场占有率½居首½
是½内唯一½够生产直径
英寸 、 英寸硅片的企业 。 公司先
12
后通过了
QS9000:1998
产品质量受到½内外用户的一致
ISO9001:2000
ISO/TS16949:2002
质量½系认证 。
½评 。
加强自主创新和研究成果的产业化是公司长期以来始终不变的信念 。 在这一信念支撑下
公司克服了
初期发展阶段的种种困难
从最初的一个研究室发展到目前主营硅材料业务年产值超过
亿元的高科技上
良性发展的½道 。
市公司
产品进入½际市场
开始步入了快速 、
在取得
12
英寸硅单晶抛光片成套技术并通过中芯½际应用评估的基础上
公司将在目前月产
万片
0.13- 0.10
微米集成电路用硅片中试生产½力基础上
通过资本市场融资进行规模化生产线建设
并积极开
展进一步的技术开发
将生产技术和产品水平提升到满足
65
纳米集成电路生产要求 。按照½际半导½产业
发展路线图预测
2010
年集成电路生产技术将采用
45
纳米技术
2016
年和
2018
年将分别发展到
22
纳米
18
纳米 。 公司将一如既往地½逐½际技术发展趋势
将技术创新工½不断推向深入
为我½半导½硅材
料发展做出应有的贡献 。 更多详情
敬请访问
½½½½://½½½.½½½½½½.½½½
CIC
½½½½
//½½½.½½½½½ ½.½½½
2007
・ ・
总第
98
55
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