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中芯国际RD及半导体技术发展趋势

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标签：半导体

中芯国际RD及半导体技术发展趋势

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这份PPT文档是中芯国际（SMIC）的内部资料，由李序武博士在2014年10月23日的北京微电子国际研讨会上所作的演讲。文档主要介绍了半导体技术的发展趋势以及SMIC在研发和供应制造技术方面的战略和计划。李博士强调了SMIC在技术创新、知识产权保护、以及与国内外合作伙伴建立强大合作关系方面的努力。文档详细讨论了芯片制造技术中的五大技术挑战：光刻技术、新材料、工艺误差、新结构和工艺集成，并提出了相应的解决方案和策略。此外，还介绍了SMIC在28纳米技术准备和多项目管理（MPW）里程碑方面的进展，以及公司在专利申请和授权方面的成就。最后，文档展望了SMIC在移动互联网、3D集成和先进逻辑技术等领域的未来技术和产品发展计划。

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