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刻蚀工序培训
刻蚀的目的和原理 刻蚀目的:去除边缘PN结,防止短路 刻蚀原理: ①4HNO3 +3Si=3SiO2 +4NO+2H 2 O ②SiO2 +6HF=H2 [SiF 6 ]+2H 2O 去PSG(磷硅玻璃)原理: SiO2 + 4HF → SiF 4 ↑ +2H 2 O SiF4 + 2HF → H 2[SiF6]
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