文档解析
本文是Silicon Laboratories, Inc.发布的关于设计低能耗嵌入式系统的指南。文中首先指出，在设计低能耗系统时，除了传统的因素外，还需要考虑硅芯片生产工艺技术、单片机（MCU）的IC架构以及运行在MCU上的软件。文章强调了三个关键参数：工作模式功耗、待机模式功耗和占空比，它们共同决定了MCU的能效。特别提到，低能耗待机状态可能使MCU看起来非常节能，但实际能效还需考虑工作模式功耗的所有相关因素。
文章进一步讨论了CMOS技术在MCU中的应用，包括功耗的计算公式CV^2f，其中C是电容，V是供电电压，f是操作频率。指出电压的降低对功耗有显著影响，而电容的减小也得益于摩尔定律。此外，提到了时钟门控等设计技术，以及它们如何帮助降低功耗，包括漏电损耗的考虑。
最后，文中讨论了选择适当的生产工艺技术的重要性，强调了在不同占空比下，不同工艺技术的选择对整体能效的影响。举例说明了180nm和90nm工艺的比较，并强调了了解应用占空比在选择生产工艺时的重要性。文章以强调低能耗系统设计是一个需要综合考虑硅芯片、软件和开发工具的全面设计过程作为结束。
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